Fabrication of Ge-on-Insulator By Epitaxial Growth and Ion-Implanted Exfoliation for Electronics and Optoelectronics Applications

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Symposium on Semiconductor Process Integration (12. : 2021 : Online) Semiconductor Process Integration 12
1. Verfasser:	Yamamoto, K. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Wang, D. (VerfasserIn), Nakashima, H. (VerfasserIn)
Pages:	12
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2021
Schlagworte:
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