Cutting-Edge Epitaxial Processes for Sub 3 Nm Technology Nodes: Application to Nanosheet Stacks and Epitaxial Wrap-Around Contacts

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Symposium on Semiconductor Process Integration (12. : 2021 : Online) Semiconductor Process Integration 12
1. Verfasser:	Hikavyy, A. Y. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Porret, C. (VerfasserIn), Mencarelli, M. (VerfasserIn), Loo, R. (VerfasserIn), Favia, P. (VerfasserIn), Ayyad, M. (VerfasserIn), Briggs, B. (VerfasserIn), Langer, R. (VerfasserIn), Horiguchi, N. (VerfasserIn)
Pages:	12
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2021
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