Importance of Annealing Step on Dielectric Constant of ZrO2 Layer of MIM Capacitors with Al2O3/ZrO2 and ZrO2/Al2O3 Stack Structures

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Symposium on Semiconductor Process Integration (12. : 2021 : Online) Semiconductor Process Integration 12
1. Verfasser: Sawada, T. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Nabatame, T. (VerfasserIn), Onaya, T. (VerfasserIn), Inoue, M. (VerfasserIn), Ohi, A. (VerfasserIn), Ikeda, N. (VerfasserIn), Tsukagoshi, K. (VerfasserIn)
Pages:12
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: 2021
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Beschreibung
ISBN:9781713836810