Second International Workshop on Pattern Recognition 1-3 May 2017, Singapore

Bibliographische Detailangaben

Körperschaften:	International Workshop on Pattern Recognition (VerfasserIn), ACM Singapore Chapter (VeranstalterIn), Hainan-Daxue (VeranstalterIn)
Weitere Verfasser:	Jiang, Xudong (HerausgeberIn), Arai, Masayuki (HerausgeberIn), Chen, Guojian (HerausgeberIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Bellingham, Washington, USA SPIE 2017
Schriftenreihe:	Proceedings of SPIE volume 10443
Schlagworte:	Konferenzschrift > Mustererkennung
Online Zugang:	Inhaltsverzeichnis
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