In situ surface control of AlP on GaP(100) substrate during processing in MOCVD ambient
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Veröffentlicht in: | Deutsche Physikalische Gesellschaft (2017 : Dresden) DPG-Frühjahrstagung (DPG Spring Meeting) of the Condensed Matter Section (SKM) |
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Format: | UnknownFormat |
Sprache: | eng |
Veröffentlicht: |
2017
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