Plasma processing special issue

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Bibliographische Detailangaben
Körperschaften:	ICRP (VerfasserIn), Gaseous Electronics Conference (VerfasserIn), Symposium on Plasma Processing (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Kaneko, Toshiro (HerausgeberIn), Kurihara, Kazuaki (HerausgeberIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Tokyo IOP Publishing 2016
Schriftenreihe:	Japanese journal of applied physics volume 55, number 7S2 (July 2016)
Schlagworte:	Konferenzschrift
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Beschreibung
Beschreibung:	"Original and review papers based on the presentations at the 9th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-9), 68th Gaseous Electronics Conference (GEC-68), 33rd Symposium on Plasma Processing (SPP-33), held in Honolulu, U.S.A., on October 12-16, 2015" - Vorwort Literaturangaben
Beschreibung:	circa 160 Seiten in verschiedenen Seitenzählungen Illustrationen