Advances in patterning materials and processes XXXII : 23 - 26 February 2015, San Jose, California, United States ; [part of SPIE advanced lithography]

Advances in patterning materials and processes XXXII 23 - 26 February 2015, San Jose, California, United States ; [part of SPIE advanced lithography]

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Weitere Verfasser: Wallow, Thomas I. (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: Bellingham, Wash. SPIE 2015
Schriftenreihe:Proceedings of SPIE 9425
Schlagworte:
Konferenzschrift
Online Zugang:Inhaltsverzeichnis
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Beschreibung:Literaturangaben
Beschreibung:Getr. Zählung, [ca. 560] S.
Ill., graph. Darst.
ISBN:9781628415278
978-1-62841-527-8