Modelling projection printing of positive photoresists

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Bibliographische Detailangaben
Weitere Verfasser: Dill, F. H. (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: Yorktown Heights, NY IBM Thomas J. Watson Research Center 1975
Schriftenreihe:Research report / IBM Thomas J. Watson Research Center RC 5261 = 23104
Engineering technology
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Beschreibung
Beschreibung:27 S.
graph. Darst.