Structure and growth kinetics of Ni 2 Si on silicon

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Tu, K. N. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Chu, W. K. (VerfasserIn), Mayer, J. W. (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: Yorktown Heights, NY IBM Thomas J. Watson Research Center 1974
Schriftenreihe:Research report / IBM Thomas J. Watson Research Center RC 5032 = 22263
Solid state physics
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Beschreibung
Beschreibung:20, 2 Bl.
graph. Darst.