Advanced etch technology for nanopatterning 25 - 26 February 2013, San Jose, California, United States ; [papers presented at the Second Advanced Etch Technology for Nanopatterning Conference (AETNC II) ... as a part of the SPIE Advanced Lithography Symposium]

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Bibliographische Detailangaben
Weitere Verfasser:	Zhang, Ying (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Bellingham, Wash. SPIE 2013
Schriftenreihe:	Proceedings of SPIE 8685
Schlagworte:	Plasma etching > Lithography > Konferenzschrift > Lithografie > Nanostruktur > Plasmaätzen
Online Zugang:	Inhaltsverzeichnis
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Beschreibung
Beschreibung:	Literaturangaben
Beschreibung:	Getr. Zählung, [ca. 230] S. Ill., graph. Darst.
ISBN:	9780819494672 978-0-8194-9467-2