Grundlagen der Maskenmetrologie für den 32nm Technologieknoten : gefördert im Rahmen des Verbundprojekts: Critical Dimension (CD) und Registration (REG) Technologien für die 32nm Maskenlithographie; kurz: CDuR32 ; Schlussbericht ; Berichtszeitraum: 01. Mai 2008 - 31. Mai 2011

Grundlagen der Maskenmetrologie für den 32nm Technologieknoten gefördert im Rahmen des Verbundprojekts: Critical Dimension (CD) und Registration (REG) Technologien für die 32nm Maskenlithographie; kurz: CDuR32 ; Schlussbericht ; Berichtszeitraum: 01. Mai 2008 - 31. Mai 2011

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: Physikalisch-Technische Bundesanstalt (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser: Bodermann, Bernd (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Braunschweig 2011
Schlagworte:
Forschungsbericht
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Beschreibung
Beschreibung:Förderkennzeichen BMBF 13N9944. - Verbund-Nr. 01064452. - Auch als elektronische Ressource vorhanden. - Unterschiede zwischen dem gedruckten Dokument und der elektronischen Ressource können nicht ausgeschlossen werden
Beschreibung:29 Bl.
Ill., graph. Darst.