International Symposium on Lithography Extensions 2010 : Kobe, Japan, 20 - 22 October 2010

International Symposium on Lithography Extensions 2010 Kobe, Japan, 20 - 22 October 2010

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: SEMATECH (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: Red Hook, NY Curran 2011
Schlagworte:
Konferenzschrift > Lithografie
Online Zugang:Inhaltsverzeichnis
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Beschreibung
Beschreibung:Enth. nur Präsentationsfolien, keine ausgearb. Vorträge
Beschreibung:690 S.
Ill., graph. Darst.
ISBN:9781617821769
978-1-61782-176-9