Herstellung von SiOx-Barriereschichten aus Polysilazanen bei Normaldruck und niedriger Temperatur mittels VUV-Strahlung : Schlussbericht

Herstellung von SiOx-Barriereschichten aus Polysilazanen bei Normaldruck und niedriger Temperatur mittels VUV-Strahlung Schlussbericht

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Prager, Lutz (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Roth, Markus (VerfasserIn), Decker, Daniel (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Leipzig u.a. 2010
Schlagworte:
Forschungsbericht > Polysilazane > Siliciumoxide > Schutzschicht > Vakuumultraviolett
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