Alternative lithographic technologies II : 23 - 25 February 2010, San Jose, California, United States ; [2010 Alternative Lithographic Technologies II Conference ; at SPIE Advanced Lithography Conference]

Alternative lithographic technologies II 23 - 25 February 2010, San Jose, California, United States ; [2010 Alternative Lithographic Technologies II Conference ; at SPIE Advanced Lithography Conference]

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: SEMATECH (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser: Herr, Daniel J. C. (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: Bellingham, Wash. SPIE 2010
Schriftenreihe:Proceedings of SPIE 7637
Schlagworte:
Extreme ultraviolet lithography > Lithography, Electron beam > Microlithography > Industrial applications > Masks (Electronics) > Konferenzschrift > Lithografie
Online Zugang:Inhaltsverzeichnis
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Beschreibung:Getr. Zählung [ca. 480 S.]
Ill., graph. Darst.
ISBN:9780819480514
978-0-8194-8051-4