Novel high-k dielectric and amorphous barrier materials fo capacitor devices and interconnect systems integration and stability studies

Dresden, Techn. Univ., Fak. Elektrotechnik und Informationstechnik, Habil, 2009

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Wenger, Christian (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2009
Schlagworte:	Hochschulschrift > High-k-Dielektrikum > Schichtkondensator > Integrierte Schaltung
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	Dresden, Techn. Univ., Fak. Elektrotechnik und Informationstechnik, Habil, 2009
Beschreibung:	Besteht aus Sonderabdrucken aus verschiedenen Publikationen
Beschreibung:	87 S. Ill., graph. Darst.