Topical review recent progress in the thin film processing magnetron sputtering with plasma diagnostics

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Bibliographische Detailangaben
Weitere Verfasser:	Han, Jeon G. (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Bristol IOP 2009
Schriftenreihe:	Journal of physics Applied physics 42.2009,4
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Beschreibung
Beschreibung:	Getr. Zählung Ill., graph. Darst.