Novel approaches to the design of halftone masks for analog lithography

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Applied optics
1. Verfasser:	Teschke, Marcel (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Sinzinger, Stefan (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2008
Schlagworte:
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