Schicht- und Prozessentwicklung für multifunktionale Schichtsysteme zur Entspiegelung und Verspiegelung (MUFOP) Abschlussbericht ; Bewilligungszeitraum: 01.06.2004 - 31.05.2007

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Bibliographische Detailangaben
Körperschaft:	Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl- und Plasmatechnik (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser:	Frach, Peter (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Dresden 2007
Schlagworte:	Forschungsbericht > Schichtwerkstoff > Siliciumoxide > Titanoxide > Abscheidung > Optische Eigenschaft > Dickenmessung > Optische Messtechnik > In situ
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Beschreibung
Beschreibung:	Förderkennzeichen BMBF 03X2505A. - Verbund-Nr. 01024492. - Engl. Berichtsbl. u.d.T.: Development of multi-functional anti-reflective and high-reflective layer systems and related pulse magnetron sputter processes Unterschiede zwischen dem gedruckten Dokument und der elektronischen Ressource können nicht ausgeschlossen werden Auch als elektronische Ressource vorh
Beschreibung:	33 Bl. Ill., graph. Darst.