Device-grade hydrogenated amorphous silicon produced by dc magnetron reactive sputtering an interim report on the growth kinetics of amorphous silicon and alloys ; interim report

Bibliographische Detailangaben

Körperschaft:	University of Illinois at Urbana-Champaign Department of Materials Science and Engineering (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser:	Abelson, J. R. (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Palo Alto, Calif. Electric Power Research Inst. 1990
Schriftenreihe:	EPRI GS-7012
Schlagworte:
Online Zugang:	Inhaltsverzeichnis
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