Multi-Imprint Nano-Lithographie MINALI ; Teilvorhaben: hochpräzise in-situ Overlayjustage für Multilayer UV-Nanoimprint ; Abschlussbericht ; Förderzeitraum vom 01.11.2002 bis 30.04.2006

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: Gesellschaft für Angewandte Mikro- und Optoelektronik (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser: Fuchs, Andreas (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Aachen ca. 2006
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