Gesamtkonzept "Grundlagen der EUV-Lithographie - Phase 1" : Maskenblanks für die EUV-Lithographie ; Abschlussbericht ; Berichtszeitraum: 01.05.2001 bis 30.09.2005

Gesamtkonzept "Grundlagen der EUV-Lithographie - Phase 1" Maskenblanks für die EUV-Lithographie ; Abschlussbericht ; Berichtszeitraum: 01.05.2001 bis 30.09.2005

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Seitz, Holger (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Meiningen Schott Lithotec ca. 2005
Schlagworte:
Forschungsbericht
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Beschreibung
Beschreibung:Förderkennzeichen BMBF 13N8089. - Literaturangaben
Unterschiede zwischen dem gedruckten Dokument und der elektronischen Ressource können nicht ausgeschlossen werden
Auch als elektronische Ressource vorh
Beschreibung:23 Bl.
Ill., graph. Darst.