EUVL-Maskblanks für den 45-nm-Knoten und zur Stepperqualifizierung innerhalb der Gesamtmaßnahme "Lithographie für den 45nm- und 32nm-Knoten" Abschlussbericht ; Berichtszeitraum: 01.07.2005 bis 30.09.2006
Gespeichert in:
1. Verfasser: | |
---|---|
Format: | UnknownFormat |
Sprache: | ger |
Veröffentlicht: |
Meiningen
Schott Lithotec AG
ca. 2006
|
Schlagworte: | |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Beschreibung: | Förderkennzeichen BMBF 13N8853. - Literaturverz Unterschiede zwischen dem gedruckten Dokument und der elektronischen Ressource können nicht ausgeschlossen werden Auch als elektronische Ressource vorh |
---|---|
Beschreibung: | 28 Bl. Ill., graph. Darst. |