EUVL-Maskblanks für den 45-nm-Knoten und zur Stepperqualifizierung innerhalb der Gesamtmaßnahme "Lithographie für den 45nm- und 32nm-Knoten" Abschlussbericht ; Berichtszeitraum: 01.07.2005 bis 30.09.2006

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Seitz, Holger (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Meiningen Schott Lithotec AG ca. 2006
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Beschreibung
Beschreibung:Förderkennzeichen BMBF 13N8853. - Literaturverz
Unterschiede zwischen dem gedruckten Dokument und der elektronischen Ressource können nicht ausgeschlossen werden
Auch als elektronische Ressource vorh
Beschreibung:28 Bl.
Ill., graph. Darst.