Entwicklung eines kompakten Excimerlasers für die Maskenmesstechnik und Maskenfertigung bei 157 nm : Schlussbericht ; Laufzeit des Vorhabens: von: 01.07.2001 bis: 31.12.2005

Entwicklung eines kompakten Excimerlasers für die Maskenmesstechnik und Maskenfertigung bei 157 nm Schlussbericht ; Laufzeit des Vorhabens: von: 01.07.2001 bis: 31.12.2005

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Görtler, Andreas (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: München TuiLaser AG ca. 2006
Schlagworte:
Forschungsbericht
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Beschreibung
Beschreibung:Förderkennzeichen BMBF 01M2995F. - Verbund-Nr. 01020642. - Literaturverz. - Engl. Berichtsbl. u.d.T.: Development of a compact excimer laser for mask metrology and mask fabrication at 157 nm as part of the joint project: 157 nm-lithography
Unterschiede zwischen dem gedruckten Dokument und der elektronischen Ressource können nicht ausgeschlossen werden
Auch als elektronische Ressource vorh
Beschreibung:24, [2] Bl.
Ill., graph. Darst.