Optimierungstechniken für TMR Schichtsysteme und Qualifizierung von Oxidationsquellen auf Wafer-Skala, Teilvorhaben : Verbundprojekt: Evaluierung von produktionstauglichen Beschichtungs- und Oxidationsverfahren für magnetische Tunnel-Schichtsysteme zur Herstellung von MRAMs ; Kurz: Magnetische Tunnel-Schichtsysteme zur Herstellung von MRAMs ; Teil I+II: Kurze Darstellung/Eingehende Darstellung ; Berichtszeitraum 01.01.2002 bis 31.12.2004

Optimierungstechniken für TMR Schichtsysteme und Qualifizierung von Oxidationsquellen auf Wafer-Skala, Teilvorhaben Verbundprojekt: Evaluierung von produktionstauglichen Beschichtungs- und Oxidationsverfahren für magnetische Tunnel-Schichtsysteme zur Herstellung von MRAMs ; Kurz: Magnetische Tunnel-Schichtsysteme zur Herstellung von MRAMs ; Teil I+II: Kurze Darstellung/Eingehende Darstellung ; Berichtszeitraum 01.01.2002 bis 31.12.2004

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: Singulus Technologies AG (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser: Langer, Jürgen (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Kahl am Main u.a. 2005
Schlagworte:
Forschungsbericht
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Beschreibung
Beschreibung:Förderkennzeichen BMBF 13N8239. - Verbund-Nr. 01020189. - Literaturverz. Bl. 27 - 28. - Engl. Berichtsbl. u.d.T.: Technics of optimization of TMR layerstracks and qualifization of oxidation sources on wafer scale
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Auch als elektronische Ressource vorh
Beschreibung:28 Bl.
Ill., graph. Darst.