Verbundprojekt Grundlagen der EUV-Lithographie - Maske und Prozess, Teilvorhaben: Maske und Resist für die EUV-Lithographie : Schlussbericht ; Laufzeit: 01.11.2001 - 30.04.2005

Verbundprojekt Grundlagen der EUV-Lithographie - Maske und Prozess, Teilvorhaben: Maske und Resist für die EUV-Lithographie Schlussbericht ; Laufzeit: 01.11.2001 - 30.04.2005

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Schwarzl, Siegfried (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Domke, Wolf-Dieter (VerfasserIn), Bender, Markus (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: München Infineon Technologies AG 2005
Schlagworte:
Forschungsbericht
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Beschreibung
Beschreibung:Förderkennzeichen BMBF 01 M 3064 A. - Verbund-Nr. 01022145. - Literaturverz. Bl. 35
Unterschiede zwischen dem gedruckten Dokument und der elektronischen Ressource können nicht ausgeschlossen werden
Auch als elektronische Ressource vorh
Beschreibung:35 Bl.
Ill., graph. Darst.