Teilprojektthema: "Beschichtungstechnologie für EUV-Lithographiemasken" im Verbundprojekt: "Grundlagen der EUV-Lithographie: Beschichtung von EUV-Maskblanks" : Abschlussbericht IOM ; [Laufzeit: 01.03.2002 - 30.04.2005]

Teilprojektthema: "Beschichtungstechnologie für EUV-Lithographiemasken" im Verbundprojekt: "Grundlagen der EUV-Lithographie: Beschichtung von EUV-Maskblanks" Abschlussbericht IOM ; [Laufzeit: 01.03.2002 - 30.04.2005]

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser: Rauschenbach, B. (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Leipzig 2005
Schlagworte:
Forschungsbericht > Lithografie > Extremes Ultraviolett > Maske > Mehrschichtleiterplatte > Beschichten > Ionenstrahl
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Beschreibung
Beschreibung:Förderkennzeichen BMBF 13N8357 - BMBF 13N8358. - Verbund-Nr. 01023319. - Literaturverz
Beschreibung:39 Bl.
Ill., graph. Darst.