In-situ-Prozesskontrolle bei der Herstellung von Nanostrukturen und Schichten im Bereich atomarer Monolagen, Teilvorhaben: Anlagentechnologie für die in-situ-Kontrolle von Nanostrukturen : Abschlussbericht zum Verbundprojekt

In-situ-Prozesskontrolle bei der Herstellung von Nanostrukturen und Schichten im Bereich atomarer Monolagen, Teilvorhaben: Anlagentechnologie für die in-situ-Kontrolle von Nanostrukturen Abschlussbericht zum Verbundprojekt

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Giesen, Christoph (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Lünenbürger, Markus (VerfasserIn), Heuken, Michael (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Aachen AIXTRON ca. 2005
Schlagworte:
Forschungsbericht > MOCVD-Verfahren > Echtzeitverarbeitung > In situ > Monoschicht > Halbleiter
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