In-situ-Prozesskontrolle bei der Herstellung von Nanostrukturen und Schichten im Bereich atomarer Monolagen, Teilvorhaben: Anlagentechnologie für die in-situ-Kontrolle von Nanostrukturen : Abschlussbericht zum Verbundprojekt

In-situ-Prozesskontrolle bei der Herstellung von Nanostrukturen und Schichten im Bereich atomarer Monolagen, Teilvorhaben: Anlagentechnologie für die in-situ-Kontrolle von Nanostrukturen Abschlussbericht zum Verbundprojekt

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Giesen, Christoph (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Lünenbürger, Markus (VerfasserIn), Heuken, Michael (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Aachen AIXTRON ca. 2005
Schlagworte:
Forschungsbericht > MOCVD-Verfahren > Echtzeitverarbeitung > In situ > Monoschicht > Halbleiter
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Beschreibung
Beschreibung:Förderkennzeichen BMBF 13N8180. - Verbund-Nr. 01021410. - Engl. Berichtsbl. u.d.T.: Joint project: In-situ process control for the production of nanostructures and thin films in atomic monolayer scale, task: reactor technology for the in-situ control of nanostructures
Unterschiede zwischen dem gedruckten Dokument und der elektronischen Ressource können nicht ausgeschlossen werden
Auch als elektronische Ressource vorh
Beschreibung:25 Bl.
Ill., graph. Darst.