Silver metal organic chemical vapor deposition for microelectronic metallization

Zugl.: München, Techn. Univ., Diss., 2005

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Gao, Liming (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Aachen Shaker 2005
Schriftenreihe:	Selected topics of electronics and micromechatronics 15
Schlagworte:	Hochschulschrift > ULSI > Metallisieren > Silber > MOCVD-Verfahren > Diffusionsbarriere
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