Ultradünne nanostrukturierte Diffusionsbarrieren gemeinsamer Abschlußbericht zum Verbundprojekt

Copper-metallization, diffusion barrier, amophous, ternary, Ta, TaN, TaSiN, WNx, WSiN, PVD, CVD

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Ecke, Romona (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Schulz, Stefan E. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Dresden AMD Saxony LLC & Co. KG u.a. 2004
Schlagworte:	Forschungsbericht
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