Colloque international sur les applications des faiscoaux ioniques à la technologie des semiconducteurs International Conference on Applications of Ions Beams to Semiconductor Technology. Grenoble, 24-26 mai 1967. Ed. par Philippe Glotin [überkl.]
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Grenoble
Centre d'études nucléaires Service d'électronique übergekl.: Gap: Éd. Ophrys
(1967)
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Tag hinzufügen | Beschreibung: | 695 S. mit Abb. 8" |
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