Die Analyse von Gläsern, Oxyden und Konzentrationsprofilen in Oberflächen und Oberflächenbelägen mit den von hochenergetischen Projektilionen ausgelösten Sekundärionen (SIMS), Photonen (IBSCA, SCANIIR), sowie mit reflektierten Projektilionen (LEISS, HEISS)
Gespeichert in:
| Weitere Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | UnknownFormat |
| Veröffentlicht: |
Mainz
1981
|
| Schlagworte: | |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Tag hinzufügen Keine Ergebnisse!