Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH (A3 Pi) - Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Hofzumahaus, Andreas (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Veröffentlicht:	1984
Schlagworte:
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Beschreibung:	Bochum, Univ., Abt. für Chemie, Diss. 1984
Beschreibung:	169 S. : graph. Darst. 8"