Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz Systemat. Komm. (Begr. von Eduard Reimer.) Neu bearb. von Karl Nastelski [u.a.]

Bibliographische Detailangaben

Weitere Verfasser:	Reimer, Eduard (BerichterstatterIn), Nastelski, Karl (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Veröffentlicht:	Köln, Berlin, Bonn, München Heymann 1968
Ausgabe:	3., erw. Aufl
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