Technical impediments to a more effective utilization of neutron transmutation doped silicon for high-power device fabrication
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1. Verfasser: | |
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Format: | UnknownFormat |
Sprache: | eng |
Veröffentlicht: |
Washington, DC
U.S. Gov. Print. Off.
1980
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Schriftenreihe: | Semiconductor measurement technology
60 |
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Beschreibung: | III, 29 S. 4° |
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