Technical impediments to a more effective utilization of neutron transmutation doped silicon for high-power device fabrication

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Myers, D. R. (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: Washington, DC U.S. Gov. Print. Off. 1980
Schriftenreihe:Semiconductor measurement technology 60
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Beschreibung
Beschreibung:III, 29 S.