Optical and dimensional-measurement problems with photomasking in microelectronics
Gespeichert in:
1. Verfasser: | |
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Format: | UnknownFormat |
Sprache: | eng |
Veröffentlicht: |
Washington, DC
U.S. Gov. Print. Off.
1975
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Schriftenreihe: | Semiconductor measurement technology
20 |
Schlagworte: | |
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Beschreibung: | Bibliography: p. 31-36 |
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Beschreibung: | IV, 36 S. graph. Darst. 4° |