Ion-induced stress relaxation during the growth of cubic boron nitride thin films

Zugl.: Dresden, Univ., Diss., 2004

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Abendroth, Barbara (VerfasserIn)
Körperschaft: Forschungszentrum Rossendorf (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: Dresden FZR 2004
Schriftenreihe:Wissenschaftlich-Technische Berichte / Forschungszentrum Rossendorf 406
Schlagworte:
Hochschulschrift > Forschungsbericht > XANES > Bornitrid > Dünne Schicht > Magnetronsputtern > Röntgendiffraktometrie > Spannungsrelaxation
Online Zugang:Inhaltsverzeichnis
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Beschreibung
Zusammenfassung:Zugl.: Dresden, Univ., Diss., 2004
Beschreibung:IV, 111 S.
Ill., graph. Darst.
30 cm