4. Zwischenbericht und Abschlussbericht zum Teilprojekt Nano-SiGe-Bauelemente, Förderkennzeichen: 13N7900, Berichtszeitraum: 01.08.2000 - 31.07.2003, innerhalb des bmb+f-Verbundprojektes "Ultra-schnelle, ultra-verlustarme Informationstechnik-Komponenten mit Nano-SiGe-Bauelementen

SiGe Hetero-Fieldeffect-Transistors (HFETs), T - and [Gamma]-metal gates, nanotechnology, electron beam lithography

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: Gesellschaft für Angewandte Mikro- und Optoelektronik (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser: Georgiev, Yordan (BerichterstatterIn), Henschel, Wolfgang (BerichterstatterIn), Kurz, Heinrich (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Aachen 2003
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Beschreibung
Zusammenfassung:SiGe Hetero-Fieldeffect-Transistors (HFETs), T - and [Gamma]-metal gates, nanotechnology, electron beam lithography
Beschreibung:Engl. Zsfassung u.d.T.: Ultra-fast and ultra-low-loss information technology components based on nano-SiGe devices
Unterschiede zwischen dem gedruckten Dokument und der elektronischen Ressource können nicht ausgeschlossen werden
Auch als elektronische Ressource vorh
Beschreibung:26 Bl
Ill., graph. Darst