Pulsed and pulsed bias sputtering principles and applications

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Barnat, Edward V. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Lu, Toh-Ming (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Boston u.a. Kluwer Acad. Publ. c 2003
Schlagworte:	Cathode sputtering (Plating process) > Thin films > Cathode sputtering Plating process > Sputtern
Online Zugang:	Verlagsangaben Inhaltsverzeichnis Cover
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