Pulsed and pulsed bias sputtering : principles and applications

Pulsed and pulsed bias sputtering principles and applications

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Barnat, Edward V. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Lu, Toh-Ming (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: Boston u.a. Kluwer Acad. Publ. c 2003
Schlagworte:
Cathode sputtering (Plating process) > Thin films > Cathode sputtering Plating process > Sputtern
Online Zugang:Verlagsangaben
Inhaltsverzeichnis
Cover
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Beschreibung
Beschreibung:Includes bibliographical references and index
Beschreibung:X, 155 S
Ill., graph. Darst
24 cm
ISBN:140207543X
1-4020-7543-X