Erzeugung dreidimensionaler Mikrostrukturen, Teilvorhaben: Entwicklung eines Technologiedemonstrators für hohen Schichtaufbau Abschlussbericht [für das Projekt MikroStruk]

MEMS, process technology, equipment, UV-Photolithography, SU 8, benzocyclobuten (BCB), micro galvanic Abformung, micro galvanic moduling, plasma etching, planar micro coils, capacitive acceleration sensor, sensors, actuators

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: micro resist technology GmbH (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Grützner, Gabi (BerichterstatterIn), Ahrens, Gisela (BerichterstatterIn), Engelke, Rainer (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Berlin 2003
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Beschreibung
Zusammenfassung:MEMS, process technology, equipment, UV-Photolithography, SU 8, benzocyclobuten (BCB), micro galvanic Abformung, micro galvanic moduling, plasma etching, planar micro coils, capacitive acceleration sensor, sensors, actuators
Beschreibung:Förderkennzeichen BMBF 16 SV 871
Unterschiede zwischen dem gedruckten Dokument und der elektronischen Ressource können nicht ausgeschlossen werden
Auch als elektronische Ressource vorh
Beschreibung:80 S
Ill., graph. Darst.