Silicon nitride and silicon dioxide thin insulating films VII proceedings of the international symposium ; [proceedings of the Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films to be held April 28 - May 2, in Paris as part of the 203rd meeting of the Electrochemical Society (ECS)]

Bibliographische Detailangaben

Körperschaften:	Electrochemical Society Dielectric Science and Technology Division (BerichterstatterIn), Electrochemical Society Electronics Division (BerichterstatterIn), Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser:	Sah, Ram Ekwal (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Pennington, NJ Electrochemical Society 2003
Schriftenreihe:	Proceedings volume / Electrochemical Society 2003-2
Schlagworte:	Thin film devices > Congresses > Silicon nitride > Silica > Electric insulators and insulation > Konferenzschrift
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