Plasma processing XIV proceedings of the international symposium : [papers presented at the Fourteenth International Symposium on Plasma Processing, held as part of the 201th Meeting of the Electrochemical Society in Philadelphia, PA, May 12 - 17, 2002]

Bibliographische Detailangaben

Körperschaften:	Electrochemical Society Dielectric Science and Technology Division (BerichterstatterIn), Electrochemical Society Electronics Division (BerichterstatterIn), International Symposium on Plasma Processing (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser:	Mathad, G. S. (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Pennington, NJ Electrochemical Society 2002
Schriftenreihe:	Proceedings volume / Electrochemical Society 2002-17
Schlagworte:	Semiconductors > Etching > Plasma etching > Konferenzschrift > Plasmastrahlbearbeitung
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