Entwicklung einer Bondanlage für das Bonden von plasmaaktivierten Siliziumwafern Abschlußbericht der KSD zum Förderprojekt ; Vorhabensbezeichnung: Niedertemperaturbonden (NTB) ; Laufzeit: 1.11.1999 - 31.10.2001 ; Berichtszeitraum: 1.11.1999 - 01.04.2000

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Harz, Michael (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Dresden Karl Suss GmbH 2000
Schlagworte:	Forschungsbericht
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