Untersuchungen zum Einfluß von mechanischem Stress auf die Migration in Metallisierungsstrukturen integrierter Schaltungen

Hannover, Univ., Diss., 2000

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Yu, Xiaoying (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: 2000
Schlagworte:
Hochschulschrift > VLSI > Metallisieren > Mechanische Spannung > Gradient > Transportprozess
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Beschreibung
Zusammenfassung:Hannover, Univ., Diss., 2000
Beschreibung:X, 91 S
Ill., graph. Darst
21 cm