Plasma etching processes for sub-quarter micron devices proceedings of the international symposium

Bibliographische Detailangaben

Körperschaften:	Electrochemical Society Dielectric Science and Technology Division (BerichterstatterIn), Symposium on Plasma Etching Processes for Sub Quarter Micron Devices (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser:	Mathad, G. S. (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Pennington, NJ Electrochemical Society c2000
Schriftenreihe:	Proceedings volume / Electrochemical Society 99-30
Schlagworte:	Konferenzschrift > Plasmaätzen
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