Strukturbreitenmessung auf photolithographischen Masken und Wafern im Lichtmikroskop Theorie, Einfluß der Polarisation des Lichtes und Abbildung von Strukturen im Bereich der Auflösungsgrenze

Zugl.: Braunschweig, Techn. Univ., Diss., 1997

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Czaske, Martin (VerfasserIn)
Körperschaft:	Physikalisch-Technische Bundesanstalt (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Veröffentlicht:	Braunschweig Wirtschaftsverl. NW, Verl. für Neue Wiss. 1997
Schlagworte:	Hochschulschrift
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