Etch rates for (100) gallium arsenide using aqueous H 2 SO 4:H 2 O 2 and aqua regia based etchants

Bibliographische Detailangaben

Körperschaften:	Lucas Heights Research Laboratories (BerichterstatterIn), Australian Nuclear Science and Technology Organisation (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser:	Keane, M. (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Veröffentlicht:	Lucas Heights, New South Wales 1991
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