Prozeßinduzierte mechanische Spannungen in TiSi 2 -Schichten während der Temperung in einem RTP-System

Zugl.: Hannover, Univ., Diss., 1993

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Taddiken, Hans (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Düsseldorf VDI-Verl. 1994
Ausgabe:	Als Ms. gedr.
Schriftenreihe:	Fortschritt-Berichte VDI Reihe 3, Verfahrenstechnik 353
Schlagworte:	Hochschulschrift > Halbleitertechnologie > Titansilicide > Dünne Schicht > Tempern > Mechanische Spannung
Online Zugang:	Inhaltsverzeichnis
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