Bestimmung der kristallographischen Fehlorientierung von {100}-Siliziumwafern mittels anisotroper Ätzung : Teilvorhaben Präzisions-V-Nuten-Array im Verbundvorhaben Grundlagen für eine optische Hybridtechnik (OPTOHYBRID)

Bestimmung der kristallographischen Fehlorientierung von {100}-Siliziumwafern mittels anisotroper Ätzung Teilvorhaben Präzisions-V-Nuten-Array im Verbundvorhaben Grundlagen für eine optische Hybridtechnik (OPTOHYBRID)

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: Zentrum Mikroelektronik Dresden (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser: Uhlig, Thomas (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Dresden ZMD 1998 -
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Beschreibung
Beschreibung:Förderkennzeichen 16 SV 201/1. - Engl. Zsfassung u.d.T.: Investigation of {100} silicon wafer misorientation using anisotropic wet etching